Entegris, Inc. 是一家材料供应商 半导体 和其他高科技产业。Entegris在其 运营中拥有约7,700名员工。它在美国拥有制造、客户服务和/或研究设施, 加拿大, 中国, 德国, 以色列, 日本, 马来西亚, 新加坡, 韩国,并且 Taiwan.公司总部设在 比莱里卡,马萨诸塞州.

该公司希望通过改善几个关键工艺的污染控制来帮助制造商提高产量,包括 光刻法, 湿法蚀刻 和干净, 化学机械平面化, 薄膜沉积、批量化学处理、晶圆和标线处理和运输、以及测试、组装和包装。公司约80%的产品用于半导体行业。


产品
Entegris产品包括:净化工艺气体和流体以及周围环境的过滤产品;分配、控制或运输工艺流体的液体系统和组件;高性能材料和特种气体管理解决方案;保护半导体的晶圆载体和运输箱 晶片 免受污染和破损;以及专用石墨、碳化硅和涂层。

历史发展
该公司成立于1999年,由1966年开始运营的Fluoroware,Inc.和EMPAK,Inc.合并而成。该公司于2000年上市。

2005年8月,Entegris与Mykrolis Corporation合并,Mykrolis Corporation是一家半导体行业的过滤产品供应商。Mykrolis是由 密理博公司 在2000年。

In August 2008, Entegris acquired Poco Graphite, Inc., a 迪凯特 半导体、EDM、玻璃装瓶、生物医学、航空航天和替代能源应用中使用的专用石墨和碳化硅产品供应商。

2014年4月30日,Entegris收购 丹伯里ATMI是一家为半导体行业提供关键材料和材料处理解决方案的上市公司,总部设在美国的ATMI,以11亿美元的交易完成。

2020年12月,Entegris宣布 投资5亿美元,在台湾建造一座 进的设施。该项目预计将在三年内在高雄科学园完成。

2022年7月,Entegris以57亿美元收购了另一家美国半导体化学品公司CMC Materials Inc。此次收购的前身为Cabot Microelectronics Corp,拥有2200名员工。


产品和解决方案包括:
净化气体、流体和周围工厂环境的过滤产品
分配、控制、分析或运输工艺流体的液体系统和组件
安全储存和输送有毒气体的气体输送系统
用于高级节点沉积和清洁的专用化学品

保护半导体晶圆免受污染和破损的晶圆载体和运输箱
提供高纯度表面的特种涂层,可实现耐磨、防腐和光滑
适用于高性能应用的 石墨和碳化硅
用于保护和运输磁盘驱动器组件的运输箱和托盘



其他
石墨与金刚石、碳60、碳纳米管、石墨烯等都是碳元素的单质,它们互为同素异形体。 石墨是一种非金属矿物,广泛应用于电子、电器、国防、 、航空航天等领域,如电池、中子还原、人造卫星上的导电结构材料、超级电容器,是21世纪战略性新兴矿产资源。按照结晶粒度划分,天然石墨可分为鳞片石墨、隐晶石墨和块状石墨,其中,鳞片石墨较块状石墨和隐晶石墨应用更为广泛。中国主要侧重于大鳞片石墨矿的开发。值得注意的是,随着大鳞片石墨矿的不断开采和利用,细鳞片石墨矿将会成为未来主要的利用资源。因此,应该注重细鳞片石墨矿的开发与利用,提高石墨资源的利用率。
石墨又可分为天然石墨和人造石墨两大类,天然石墨来自石墨矿藏,天然石墨还可分成鳞片石墨、土状石墨及块状石墨。鳞片石墨是天然晶质石墨,其形似鱼磷状,属六方晶系,呈层状结构,具有良好的耐高温、导电、导热、润滑、可塑及耐酸碱等性能,可应用于制造电刷、石墨电极、石墨坩埚等石墨质产品。土状石墨又称为微晶石墨或隐晶石墨,它的使用价值不及鳞片石墨,价格较低,但其机械强度比鳞片石墨高,在制造电极、炭块、冶金和电池负极方面有较大的发展。 [21]细鳞片石墨矿中通常只含有15%~25%的大鳞片石墨。 [20]天然开采得到的石墨含杂质较多,因而需要选矿,降低其杂质含量后才能使用,天然石墨的主要用途是生产耐火材料、电刷、柔性石墨制品、润滑剂、锂离子电池负极材料等,生产部分炭素制品有时也加入一定数量的天然石墨。 [2]
人造石墨是现代炭素工业的新产物,其原料来源广泛,造成生产出来的人造石墨晶 体的聚集状态是不规则的,是一种相对紊乱堆积的多晶石墨,其具有优良的电学、热学和化学稳定性,适于生产人造石墨电极等各种人造石墨功能性材料产品。 [21]炭质炭素制品,以无烟煤和冶金焦为原料,焙烧后不必石墨化,其热导率较低而电阻率较高,没用润滑性,机械强度也很高。石墨质炭素制品则是以易石墨化的石油焦或沥青焦为原料,产品在焙烧后必须经过石墨化高位处理,其热导率高,电阻率低,灰分很低,良好的润滑性,但机械强度下降。炭素材料具有导热性好、膨胀系数低、化学性能稳定、耐腐蚀耐磨损性能良好等优势,在太阳能储热领域具有重要的应用价值。
广义上看,炭素材料应该包括金刚石、石墨、无定形碳、富勒碳及纳米碳五种碳原子的同素异形体所形成的各类材料。从晶体结构上讲,通常所说的炭素材料都是以石墨微晶为基础构成的,不过在各类炭素材料中,微晶的尺寸和微晶的三围排列的有序程度有相当大的差别。从材料的组成上看,生产炭素材料制品所采用的半石墨化原料或加入部分天然石墨或石墨碎,因而各石墨材料的理化性质(如导电导热性、润滑性、耐化学腐蚀性等)也差异很大。因此将炭素制品按理化性区分为炭质、石墨质和半石墨质 3 类。
人造石墨的种类也很多,如单晶石墨、多晶石墨、热解石墨、高定向热解石墨、聚酰亚胺合成的石墨、石墨纤维等,多数人造石墨制品属于多晶石墨一类。人造石墨中的主要产品是电弧炼钢炉及矿热电炉使用的石墨电极,石墨电极是一种耐高温、耐腐蚀的导电材料。人造石墨在其他许多工业部门也有广泛的用途,如机械工业中电机用电刷、精密铸造模具、电火花加工的模具及耐磨部件,化学工业中的电解槽使用的导电体或耐腐蚀器材,高纯度及高强度人造石墨是核工业部门的反应堆结构材料和用作导弹火箭的部件等。
石墨还可制取散热材料、密封材料、隔热材料、和防辐射材料等,石墨功能材料广泛应用于冶金、化工、机械设备、新能源汽车、核电、电子信息、航空航天和国防等行业。欧盟委员会发布的《对欧盟生死攸关的原料》报告中,将石墨列入14 种紧缺矿产原料。


应用
石墨可用于生产耐火材料、导电材料、耐磨材料、润滑剂、耐高温密封材料、耐腐蚀材料、隔热材料、吸附材料、摩擦材料和防辐射材料等,这些材料广泛应用于冶金、石油化工、机械工业、电子产业、核工业和国防等。
耐火材料
在钢铁工业,石墨耐火材料用于电弧高炉和氧气转炉的耐火炉衬、钢水包耐火衬等; 石墨耐火材料主要是整体浇铸材料、镁碳砖和铝石墨耐火材料。石墨还用于粉末冶金和金属铸造成膜材料,石墨粉加入到钢水中增加钢的碳含量,使高碳钢具有许多优异性能。
导电材料
在电气工业上用作制造电极、电刷、碳棒、碳管、水银正流器的正极,石墨垫圈、电话零件,电视机显像管的涂层等。
高温冶金材料
由于石墨的热膨胀系数小,而且能耐急冷急热的变化,可作为玻璃器的铸模,使用石墨后黑色金属得到铸件尺寸 ,表面光洁成品率高,不经加工或稍作加工就可使用,因而节省了大量金属。生产硬质合金等粉末冶金工艺,通常用石墨材料制成压模和烧结用的瓷舟。单晶硅的晶体生长坩埚,区域精炼容器,支架夹具,感应加热器等都是用高纯石墨加工而成的。此外石墨还可作真空冶炼的石墨隔热板和底座,高温电阻炉炉管等元件。
原子能与国防工业
石墨具有良好的中子减速剂用于原子反应堆中,铀-石墨反应堆是目前应用较多的一种原子反应堆。作为动力用的原子能反应堆中的减速材料应当具有高熔点,稳定,耐腐蚀的性能,石墨完全可以满足上述要求。作为原子反应堆用的石墨纯度要求很高,杂质含量不应超过几十个ppm 。特别是其中硼含量应少于0.5 ppm。在国防工业中还用石墨制造固体燃料火箭的喷嘴,导弹的鼻锥,宇宙航行设备的零件,隔热材料和防射线材料。
(1) 石墨还能防止锅炉结垢,有关单位试验表明,在水中加入一定量的石墨粉(每吨水大约用4~5克)能防止锅炉表面结垢。此外石墨涂在金属烟囱、屋顶、桥梁、管道上可以防腐防锈。
(2) 石墨逐渐取代铜成为EDM电极的 材料。
(10) 石墨深加工产品填加到塑料产品和橡胶产品中,可使塑料制品和橡胶制品不产生静电,许多工业产品需要具有防静电和屏蔽电磁辐射功能,石墨产品兼有这两项功能,石墨在塑料制品、橡胶制品及其它相关工业产品中的应用也会增加。

此外,石墨还是轻工业中玻璃和造纸的磨光剂和防锈剂,是制造铅笔、墨汁、黑漆、油墨和人造金刚石、钻石不可缺少的原料。它是一种很好的节能环保材料,美国已用它做为汽车电池。随着现代科学技术和工业的发展,石墨的应用领域还在不断拓宽,已成为高科技领域中新型复合材料的重要原料,在国民经济中具有重要的作用。

光学材料

及应用

平面镜片、球面镜片和非球面镜片

概述

— 恩特格里斯 (Entegris) 的特种材料是性能 之选，

其优势远超铍、铝、玻璃和其他类型的碳化硅。

我们的 SUPERSiC® (SiC) 碳化硅

具有高刚度和强度、优异的热性能以及在低温环境下的稳定性，

且不存在铍的健康隐患。这些 的特性使 SUPERSiC

成为工业、航天以及机载/地面光电应用的理想之选。

采用 SUPERSiC 碳化硅材料制造的反射光学元件

尤其适用于为严苛的应用提供高品质光学镜片。

由这种材料制成的基板

是预制件的基础，在其上涂覆化学气相沉积碳化硅或光学级硅涂层。

两种涂层的应用均可提供现成的基材，

以便后续进行抛光和反射涂层精加工。

形状

— 我们独特的化学气相转化 (CVC) 工艺使
创新者能够设计复杂的形状和轮廓，

而这些形状和轮廓采用其他方法制造成本高昂且难度较大。

使用传统的车床和铣床加工设备及刀具，将石墨预成型件加工成接近最终形状。

我们的工艺能够自由地创建复杂形状，

其难度与使用铝材相当。

CVC 工艺完成了从石墨到 碳化硅的转化。

平面、球体、非球面或偏轴非球面轮廓均可轻松制造，

采用 SUPERSiC 碳化硅工艺。

通过转化键合或反应键合碳化硅 (RBSC) 技术，形状制造能力得到进一步增强。

结构和光学设计可采用闭孔结构和

背板结构，以增加刚度并减轻重量，

同时保持整体结构完整性。

硅包覆球面镜

轻质平面碳化硅镜

振镜式碳化硅扫描镜

镀膜

— 抛光

SUPERSiC 碳化硅含有约 18% 的残余孔隙率，

因此其基体本身就很轻。

涂覆封装或选择性放置的镀膜即可完成基体的制备。

我们提供三种镀膜作为抛光表面：化学气相沉积 (CVD) 碳化硅、非晶硅

和晶体硅。这些镀膜可以采用传统抛光方式，

或者，对于硅镀膜，可以采用单点金刚石车削。所有三种方案在性能、成本和交货时间方面都各有优势。

应用

— 扫描镜

扫描系统中光学元件的 动态响应对其成功运行至关重要。
采用 SUPERSiC 级材料制成的扫描镜重量轻，但刚性极高，可在快速运动条件下提供所需的特性。
设计可采用开放式或封闭式结构，以提高刚性和稳定性。
对于能量耗散至关重要的激光应用，SUPERSiC 碳化硅优异的热性能也使其受益匪浅。

光刻

的动态响应不 于光学元件。
SUPERSiC 材料的机械性能也使光刻应用受益。
SUPERSiC 碳化硅在很宽的温度范围内都具有相当高的机械刚度。在 SUPERSiC 碳化硅部件上应用 CVD SiC 涂层，可确保防止颗粒污染，有效密封部件，使其轻巧、坚固且洁净——所有这些特性对于光刻工艺而言都至关重要。

望远镜——结构和反射镜

将计量结构和光学元件组装成望远镜，采用相同的材料是材料配置的“圣杯”。使用 SUPERSiC 材料制造结构和反射镜，是实现 性能的一项重大进步，因为它消除了因材料性能不匹配而导致的误差。特别是，空间应用能够显著受益于 SUPERSiC 材料的低热膨胀系数和高刚度。一系列可选方案——包括SUPERSiC-Si级材料带来的更高弹性模量、CVD SiC涂层、Si包覆层、反射涂层等——为各种设计项目提供了多种选择。

SUPERSiC材料

— 我们独特的转化工艺生产出目前市场上 品质的碳化硅产品。该工艺以专门设计和制造的石墨材料为原料，作为转化工艺的前驱体。

在石墨中加工出近净成形零件，进行提纯，然后进行专有的转化工艺，用纯硅原子取代碳原子。在转化过程中，我们可以将零件熔合在一起，使它们以组件的形式进入炉内，并在炉外完成熔合。
作为一个整体单元，
其性能与
最初由一块材料制成的部件完全相同。
无需使用粘合剂或其他粘接剂即可完成此过程。
这种转化键合工艺能够制造
极其复杂、轻质的结构，用于航空航天光学器件，

例如，适用于航天飞行的封闭式、离轴或非球面反射镜，用于卫星系统。

这些材料和工艺优势使我们处于
碳化硅组件开发的前沿。

SUPERSiC

SUPERSiC 碳化硅是我们的基础碳化硅转化石墨。

SUPERSiC-3C

SUPERSiC-3C 牌号是在 SUPERSiC 碳化硅上涂覆了一层 75 μm CVD 碳化硅涂层，
该涂层封装了基材并密封了表面。

这种材料是低成本光学器件和结构的理想选择。 SUPERSiC-Si

SUPERSiC-Si 牌号是 SUPERSiC 碳化硅，
已浸渍高纯度硅，
使其机械性能优于 SUPERSiC 材料。

该牌号非常适合用于 CVD SiC 涂层或

硅包覆层。

2

3
SUPERSiC-Si-3C

SUPERSiC-Si-3C 牌号是 SUPERSiC 碳化硅，
已浸渍硅，
然后涂覆 75 μm 厚的 CVD SiC 涂层，
密封孔隙。

该材料非常适合用于空间光学器件和结构。

SUPERSiC-Si-8C

SUPERSiC-Si-8C 牌号是 SUPERSiC 碳化硅，
已浸渍硅，
然后涂覆 200 μm 厚的 CVD SiC 涂层。这种材料非常适合用于

大型光学和光刻元件。

SUPERSiC-Si-4S

SUPERSiC-Si-4S 牌号是 SUPERSiC 碳化硅，
经过硅浸渗，
然后选择性地

包覆一层 100 μm 厚的硅层。这种材料非常适合单点金刚石车削 (SPDT)，
可缩短交货时间和降低总成本。

SUPERSiC-SP

SUPERSiC-SP 牌号是我们碳化硅材料系列中的 牌号。
该产品通过将致密化材料从硅

改为碳化硅，改进了 SUPERSiC-Si 材料的机械性能。* 最终得到的材料在弯曲和拉伸载荷下强度更高。
此外，单片材料确保了对热载荷更均匀的响应。

*会残留少量游离硅。